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典型超純水設備清洗用半導體清洗用水主要應用于電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液、顯像管和陰極射線管生產配料用純水、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水、液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產中主要用于清洗典型超純水設備，另有少量用于藥液配制，集成電路生產中高純水清洗典型超純水設備。

典型超純水設備工藝流程

預處理系統-反滲透系統-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)傳統工藝

超純水設備

預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)新工藝

預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM)新工藝

預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)新工藝處理系統-反滲透系統-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)傳統工藝。